图源:摄图网
8月21日消息,台积电将在美国亚利桑那州投资设立2座先进晶圆厂,第1座工厂目前已完成建设,正进行数千台先进及精密设备安装作业,预计2025年量产4纳米制程;第2座晶圆厂建设也在顺利进行中。据台媒报道,台积电亚利桑那州工厂已经导入当地第一台极紫外光(euv)设备。
euv光刻机,又称极紫外线光刻机,是芯片生产工具,是生产大规模集成电路的核心设备,对芯片工艺有着决定性的影响,其中,小于5纳米的芯片晶圆,只能用euv光刻机生产。
光刻机现状及运输情况
光刻机是技术壁垒极高的产品,当前,全球仅有荷兰的asml公司有能力生产euv光刻机。根据该公司的euv光刻机售价显示,该公司最新的光刻机型号为nxe:3600d,暂无定价,但上一代euv光刻机的售价已经超过150亿美元。从运输成本上来说,euv光刻机体积十分庞大,一台顶级的euv光刻机重大180吨,需要40个集装箱来运输,仅安装调试的时间就需要一年左右。
芯片研发资金需求极大,成本占比最高
芯片设计的研发投入需要巨大的资金投入,根据微电子研究中心imec披露的数据,设计一颗28纳米工艺芯片需要约5000万美元,14nm工艺需要1亿美元,10nm工艺需要1.8亿美元,7nm工艺需要近3亿美元,5nm工艺大约需要5.5亿美元,3nm为6亿美元,2nm将近8亿美元。
euv光刻机主要销往亚太地区、台积电成最大买家
从euv光刻机的购买商情况来看,2018-2020年,亚太地区销量最高,其中台积电购买的euv光刻机最多,合计达41台,其次是三星、英特尔。
总的来看,台积电美国亚利桑那工厂的建设已经进入关键阶段。随着光刻机的引入,该工厂的芯片产能将逐渐提速。台积电作为光刻机的最大买家,与asml携手促进全球芯片科技的发展,双方实现互利共赢。
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本报告前瞻性、适时性地对光刻机行业的发展背景、供需情况、市场规模、竞争格局等行业现状进行分析,并结合多年来光刻机行业发展轨迹及实践经验,对光刻机行业未来的发展...
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